| 薄膜厚度对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响 |
| [发布日期：2012-12-21 点击次数：1384] |
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摘要：李 雪，余 忠，孙 科，李金龙，黄晓东，兰中文
（电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室，四川成都 610054）
摘 要：采用射频磁控溅射法在Si(100)基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜，研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明，在800℃空气中退火时，Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。随薄膜厚度增加，薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大，饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc均略有增加。
关键词：射频磁控溅射；Ni-Zn铁氧体薄膜；薄膜厚度；磁性能
中图分类号：TM277; O484.4+3 文献标识码：A 文章编号… |
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